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      比表面積及孔隙度分析儀二氧硅氧化鋁檢測

      比表面積及孔隙度分析儀二氧硅氧化鋁檢測

      產(chǎn)品型號(hào): YT-Rise-1020

      所屬分類:儀器

      更新時(shí)間:2025-01-22

      簡要描述:Rise-1020型比表面積及孔隙度分析儀二氧硅氧化鋁檢測參ISO9277,ISO15901,國際標(biāo)準(zhǔn)和GB/T19587國家標(biāo)準(zhǔn),依據(jù)靜態(tài)容量法通過質(zhì)量平衡方程,靜態(tài)氣體平衡和壓力測定來測試吸附過程。測試過程在液氮溫度下進(jìn)行。已知量氣體由歧路充入樣品管后,會(huì)引起壓力下降,由此計(jì)算吸附平衡時(shí)被吸附氣體的摩爾質(zhì)量。

      詳細(xì)說明:

        一、儀器簡介:

        Rise-1020型比表面積及孔隙度分析儀二氧硅氧化鋁檢測參ISO9277,ISO15901,國際標(biāo)準(zhǔn)和GB/T19587國家標(biāo)準(zhǔn),依據(jù)靜態(tài)容量法通過質(zhì)量平衡方程,靜態(tài)氣體平衡和壓力測定來測試吸附過程。測試過程在液氮溫度下進(jìn)行。已知量氣體由歧路充入樣品管后,會(huì)引起壓力下降,由此計(jì)算吸附平衡時(shí)被吸附氣體的摩爾質(zhì)量。通過測定出該平衡吸附量,利用理論模型來求出被測樣品的單點(diǎn)、多點(diǎn)BET比表面積,Langmuir比表面積;BJH中孔、大孔體積、面積分布,總孔體積;t―plot微孔體積和表面積,Dubinin―Astakhov微孔分布,Horvath―Kawazoe、SF微孔分布,MP微孔分布;非局域密度函數(shù)理論(NLDFT)和蒙特卡洛(GCMC)孔徑分布模型等參數(shù)。

        模塊式氣路設(shè)計(jì)

        Rise-1020型比表面積及孔隙度分析儀二氧硅氧化鋁檢測采用模塊式全不銹鋼真空氣路設(shè)計(jì)和的防泄漏無污染措施,從而確保了高真空的實(shí)現(xiàn),避免了因連接管路接頭過多容易泄漏的弊端。

        恒定的溫度

        自主研制的金屬杜瓦瓶因其內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),從而保證了被測試樣品溫度的恒定,同時(shí)又避免了玻璃杜瓦瓶易碎不宜移動(dòng)的缺陷。

        高精度的傳感器

        多個(gè)高精度的傳感器及22位的AD轉(zhuǎn)換器件,確保了比表面積及孔徑計(jì)算的精確性。

        的理論模型

        其的非局域密度函數(shù)理論(NLDFT)和蒙特卡洛(GCMC)孔徑分布模型確立了在我國比表面積及孔隙度分析儀行業(yè)的地位。

        操作自動(dòng)化

        吸附、脫附過程全部由計(jì)算機(jī)控制,無需人工操作

        二、技術(shù)特點(diǎn):

        1、單點(diǎn)、多點(diǎn)BET比表面積,Langmuir比表面積

        2、BJH中孔、大孔體積、面積分布,總孔體積

        3、T―plot微孔體積和表面積

        Dubinin―Astakhov微孔分布

        Horvath―Kawazoe、SF微孔分布

        MP微孔分布

        4、非局域密度函數(shù)理論(NLDFT)和蒙特卡洛(GCMC)孔徑分布模型

        5、真密度測試

        三、技術(shù)參數(shù):

        1、比表面積:0.0005㎡/g至無上限

        2、孔徑分析范圍:3.5至5000埃

        3、測驗(yàn)原理:低溫氮物理吸附(靜態(tài)容量法)

        4、吸附氣體: 氮?dú)?默認(rèn))、氦氣等非腐蝕性氣體

        5、P/P0范圍:1×10-6―0.998

        6、壓力、溫度測量:

        進(jìn)口絕對(duì)壓力傳感器0-133KPa,精度0.1% ,3只。

        溫度傳感器:PT-100 ,精度 0.1℃ 1只

        7、杜瓦瓶:2L,金屬材質(zhì)避免了玻璃杜瓦瓶易碎不宜移動(dòng)的缺陷

        8、真空泵:進(jìn)口雙級(jí)機(jī)械泵

        9、極限真空度 :1.0x10-4 Torr

        10、測量軟件: 吸附/脫附等溫線測定

        11、分析站1個(gè),脫氣站3個(gè),脫氣溫度可達(dá)400 °C。三個(gè)脫氣位位于同一個(gè)軟性加熱包中;分析位不用作脫氣位。






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